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순수 텅스텐 및 강화 텅스텐
텅스텐 속성:
- 고밀도: 19.25g/cm3(납의 거의 두 배, 우라늄 및 금과 비슷함)
- 고융점: 3422°C(탄소를 제외한 알려진 모든 원소의 가장 높은 융점)
- 낮은 증기압
- 높은 인장 강도
- 낮은 열팽창 계수
- 낮은 전기 저항
- 좋은 가공성
- 높은 흡수력
- 고탄성률
텅스텐 용도:
희귀성에도 불구하고 텅스텐은 군사 산업을 포함한 첨단 산업에서 가장 많이 사용되는 재료 중 하나입니다. 항공우주; 원자력 에너지; 전자제품; 그리고 화학. 텅스텐은 절삭 공구를 생산하는 데 사용될 수 있습니다. 가스 터빈 블레이드; 열 튜브; 전자 접점 및 방사선 차폐물; 고온로 부품 등이 있습니다. 이러한 제품에는 일반적으로 필수 특성을 증폭하거나 강화하기 위해 소량의 다른 금속이 포함되어 있습니다. 이러한 합금 금속 및 비금속 원소에는 몰리브덴이 포함됩니다. 티탄; 탄탈; 탄소; 구리; 니켈; 지르코늄 등이 있습니다.
요약하자면, 텅스텐의 수많은 성능 특성은 의료에서 석영 유리에 이르기까지 거의 상상할 수 없는 범위의 산업 및 응용 분야에서 매우 중요합니다. 코팅 및 열 공정에서 이온 주입까지.
- 용광로 구성 요소
- 반도체 베이스 플레이트
- 이온 주입 음극 및 양극
- 소결 및 어닐링 보트 및 전하 캐리어
- 방사선 차폐, 스퍼터링 타겟 및 전극
- 전자관용 부품
란탄화텅스텐 산화된 희토류 텅스텐(W-REO)으로 분류되는 산화된 란타늄 도핑 텅스텐 합금입니다. 분산된 란타늄 산화물을 첨가하면 란탄화 텅스텐은 향상된 내열성, 열전도도, 크리프 저항성 및 높은 재결정 온도를 나타냅니다. 이러한 뛰어난 특성은 란탄화 텅스텐 전극이 아크 시작 능력, 아크 침식 저항, 아크 안정성 및 제어 가능성에서 탁월한 성능을 달성하는 데 도움이 됩니다.
우리는 W-La2O3, W-CeO2, W-Y2O3 및 기타 산화 희토류 텅스텐봉을 제조할 수 있는 능력을 보유하고 있습니다. 그들은 주로 많은 응용 분야에서 전극과 음극으로 사용됩니다. 우리는 또한 자격을 갖춘 산화물 희토류 텅스텐 판재를 연구하고 개발하는 데 전념하고 있습니다.
W-La2O3 및 W-CeO2와 같은 희토류 산화물 도핑된 텅스텐 전극은 많은 우수한 용접 특성을 가지고 있습니다. 희토류 산화물이 도핑된 텅스텐 전극은 텅스텐 불활성 가스(TIG) 용접 및 플라즈마 아크 용접(PAW)으로도 알려진 가스 텅스텐 아크 용접(GTAW)용 전극 중에서 가장 좋은 특성을 나타냅니다. 텅스텐에 첨가된 산화물은 재결정 온도를 높이는 동시에 텅스텐 전극의 전자 일함수를 낮추어 발광량을 촉진시켰다.
칼륨(K) 도핑된 텅스텐 PP 정도의 나노버블이 함유되어 있어 결정립계의 움직임과 전위를 방해할 수 있으며, 고온에서 강화 및 재결정을 억제하고 순수한 W에 비해 더 미세한 결정립을 생성할 수 있습니다. 이러한 결정립 미세화는 또한 강화 및 강인화로 이어집니다. . 더욱이 K-도핑된 W는 중성자 조사에 의해 형성된 결함에 대한 싱크 역할을 하는 결정립계를 많이 포함하고 있기 때문에 순수 W에 비해 중성자 조사로 인한 취성을 억제할 수 있을 것으로 예상됩니다.