టంగ్స్టన్ అన్ని లోహాలలో అత్యధిక ద్రవీభవన స్థానం మరియు స్థితిస్థాపకత యొక్క అసాధారణమైన అధిక మాడ్యులస్‌ను కలిగి ఉంది. దాని అత్యుత్తమ ఉష్ణ లక్షణాలకు ధన్యవాదాలు, టంగ్స్టన్ అత్యధిక ఉష్ణోగ్రతలను కూడా సులభంగా తట్టుకోగలదు. టంగ్స్టన్ దాని సాపేక్షంగా అధిక సాంద్రత కోసం కూడా నిలుస్తుంది మరియు అందువల్ల విమానయానం మరియు ఏరోస్పేస్ పరిశ్రమలు, ఎలక్ట్రికల్ ఇంజనీరింగ్ రంగం మరియు ఎలక్ట్రానిక్స్ వంటి అనేక రకాల పారిశ్రామిక అనువర్తనాల్లో ఉపయోగించబడుతుంది.
100 సంవత్సరాలకు పైగా టంగ్స్టన్ యొక్క ప్రాథమిక అప్లికేషన్ ప్రకాశించే లైట్ బల్బులలో ఫిలమెంట్‌గా ఉంది. తక్కువ మొత్తంలో పొటాషియం-అల్యూమినియం సిలికేట్‌తో డోప్ చేయబడి, టంగ్స్టన్ పౌడర్ అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద సింటర్ చేయబడి, ప్రపంచవ్యాప్తంగా మిలియన్ల గృహాలను వెలిగించే లైట్ బల్బుల మధ్యలో ఉండే వైర్ ఫిలమెంట్‌ను ఉత్పత్తి చేస్తుంది.
అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద టంగ్స్టన్ ఆకారాన్ని ఉంచుకునే సామర్థ్యం కారణంగా, టంగ్స్టన్ తంతువులు ఇప్పుడు దీపాలు, ఫ్లడ్‌లైట్లు, ఎలక్ట్రికల్ ఫర్నేస్‌లలోని హీటింగ్ ఎలిమెంట్‌లు, మైక్రోవేవ్‌లు మరియు ఎక్స్-రే ట్యూబ్‌లతో సహా అనేక రకాల గృహోపకరణాలలో కూడా ఉపయోగించబడుతున్నాయి.
తీవ్రమైన వేడిని తట్టుకునే లోహం కూడా థర్మోకపుల్స్ మరియు ఎలక్ట్రిక్ ఆర్క్ ఫర్నేస్‌లు మరియు వెల్డింగ్ పరికరాలలో విద్యుత్ పరిచయాలకు అనువైనదిగా చేస్తుంది. కౌంటర్‌వెయిట్‌లు, ఫిషింగ్ సింకర్‌లు మరియు బాణాలు వంటి సాంద్రీకృత ద్రవ్యరాశి లేదా బరువు అవసరమయ్యే అప్లికేషన్‌లు తరచుగా టంగ్‌స్టన్‌ను దాని సాంద్రత కారణంగా ఉపయోగిస్తాయి.
>99.98% స్వచ్ఛతతో, ఇది సెమీకండక్టర్ అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్ భాగాలు, హీటింగ్ ఎలిమెంట్స్, స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యాలు, ఎలక్ట్రోడ్లు, అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిర్మాణ భాగాలు, క్రిస్టల్ క్రూసిబుల్స్, కౌంటర్ వెయిట్‌లు, రేడియేషన్ షీల్డింగ్, పవర్ డివైస్ హీట్ డిస్సిపేషన్ మరియు ఇతర సందర్భాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.
మేము మెటల్ పౌడర్ నుండి తుది ఉత్పత్తికి మా టంగ్స్టన్ ఉత్పత్తులను ఉత్పత్తి చేస్తాము. మేము స్వచ్ఛమైన టంగ్స్టన్ ఆక్సైడ్‌ను మాత్రమే మూల పదార్థంగా ఉపయోగిస్తాము. మేము 8N వరకు స్వచ్ఛతతో అధిక స్వచ్ఛత టంగ్స్టన్ ఉత్పత్తులను అందిస్తాము.
ఆక్సిడైజ్డ్ రేర్ ఎర్త్ టంగ్స్టన్ (W-REO)
ఆక్సిడైజ్డ్ అరుదైన ఎర్త్ టంగ్స్టన్ (WLa, WCe, WTh, WY మరియు ఇతర అరుదైన ఎర్త్ మిశ్రమాలు) స్వచ్ఛమైన టంగ్స్టన్ కంటే ఎక్కువ బలం మరియు ప్రత్యేక ఉత్సర్గ పనితీరును కలిగి ఉంది మరియు ఇది వివిధ ఎలక్ట్రోడ్‌లలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది: TIG వెల్డింగ్, ప్లాస్మా వెల్డింగ్, ప్లాస్మా వెల్డింగ్, ప్లాస్మా స్ప్రే పూత, ప్లాస్మా స్మెల్టింగ్ మరియు గ్యాస్ డిచ్ఛార్జ్ లైట్ సోర్స్; ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిర్మాణ భాగాలలో కూడా ఉపయోగించబడుతుంది.
లాంథనేటెడ్ టంగ్స్టన్ అనేది ఆక్సిడైజ్డ్ లాంతనమ్ డోప్డ్ టంగ్స్టన్ మిశ్రమం. చెదరగొట్టబడిన లాంతనమ్ ఆక్సైడ్ జోడించబడినప్పుడు, లాంతనేటెడ్ టంగ్స్టన్ మెరుగైన ఉష్ణ నిరోధకత, ఉష్ణ వాహకత, క్రీప్ రెసిస్టెన్స్ మరియు అధిక రీక్రిస్టలైజేషన్ ఉష్ణోగ్రతను ప్రదర్శిస్తుంది. ఆర్క్ స్టార్టింగ్ ఎబిలిటీ, ఆర్క్ ఎరోషన్ రెసిస్టెన్స్ మరియు ఆర్క్ స్టెబిలిటీ మరియు కంట్రోలబిలిటీలో లాంతనేటెడ్ టంగ్స్టన్ ఎలక్ట్రోడ్లు అసాధారణమైన పనితీరును సాధించడంలో ఈ అత్యుత్తమ లక్షణాలు సహాయపడతాయి.
W-La, W-Ce, WY, W-Th మరియు ఇతర ఆక్సిడైజ్డ్ అరుదైన ఎర్త్ టంగ్‌స్టన్‌లను తయారు చేయగల సామర్థ్యం మాకు ఉంది. అవి ప్రధానంగా అనేక అనువర్తనాల్లో ఎలక్ట్రోడ్లు మరియు కాథోడ్‌లుగా ఉపయోగించబడతాయి. టంగ్‌స్టన్‌కు జోడించిన ఆక్సైడ్‌లు రీక్రిస్టలైజేషన్ ఉష్ణోగ్రతను పెంచాయి మరియు అదే సమయంలో, టంగ్స్టన్ ఎలక్ట్రోడ్ యొక్క ఎలక్ట్రాన్ పని పనితీరును తగ్గించడం ద్వారా ఉద్గార స్థాయిని ప్రోత్సహించాయి.
పొటాషియం-డోప్డ్ టంగ్స్టన్ (టంగ్స్టన్-పొటాషియం లేదా WK)
పొటాషియం (K) -డోప్డ్ W ppm క్రమంలో నానో-బుడగలను కలిగి ఉంటుంది, ఇది ధాన్యం సరిహద్దులు మరియు స్థానభ్రంశం యొక్క కదలికకు ఆటంకం కలిగిస్తుంది, అవి అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద బలపడటానికి మరియు రీక్రిస్టలైజేషన్‌ను అణిచివేసేందుకు దారితీస్తాయి మరియు స్వచ్ఛమైన W. ఈ ధాన్యంతో పోలిస్తే చక్కటి ధాన్యాలను ఉత్పత్తి చేయగలవు. శుద్ధి చేయడం కూడా బలోపేతం మరియు పటిష్టతకు దారితీస్తుంది. అంతేకాకుండా, స్వచ్ఛమైన Wతో పోలిస్తే K-డోప్డ్ Wలో న్యూట్రాన్-రేడియేషన్-ప్రేరిత పెళుసుదనం అణచివేయబడుతుందని అంచనా వేయబడింది, ఎందుకంటే ఇది న్యూట్రాన్ రేడియేషన్ ద్వారా ఏర్పడిన లోపాలకు సింక్‌లుగా పనిచేసే పెద్ద సంఖ్యలో ధాన్యం సరిహద్దులను కలిగి ఉంటుంది.
తక్కువ హైడ్రోజన్ ఐసోటోప్ నిలుపుదల, తక్కువ స్పుట్టరింగ్ దిగుబడి మరియు అధిక ద్రవీభవన స్థానం వంటి దాని ప్రత్యేక లక్షణాల కారణంగా ప్లాస్మా-ఫేసింగ్ మెటీరియల్స్ (PFMలు)లో టంగ్స్టన్ (W) అత్యంత ఆశాజనకమైన అభ్యర్థులలో ఒకటిగా పరిగణించబడుతుంది. అయినప్పటికీ, అధిక డక్టైల్-టు-బ్రిటిల్ ట్రాన్సిషన్ టెంపరేచర్ (DBTT), తక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద పెళుసుదనం మరియు న్యూట్రాన్ రేడియేషన్ కారణంగా పెళుసుదనం వంటి లోపాలు టంగ్స్టన్ యొక్క ఇంజనీరింగ్ అప్లికేషన్‌లకు అడ్డంకులు. డక్టైల్ డోపాంట్‌లతో కూడిన W-ఆధారిత మిశ్రమాల నమూనాలు ఈ ప్రతికూలతలను తగ్గించడానికి సమర్థవంతమైన సాధనం. పొటాషియం డోపింగ్ సెకండరీ రీక్రిస్టలైజేషన్‌ను అణచివేయడంలో మరియు టంగ్స్టన్ సన్నని తీగలలో 1900 °C వరకు ధాన్యం పెరుగుదలను నియంత్రించడంలో దాని సామర్థ్యాన్ని ఇప్పటికే రుజువు చేసింది మరియు అందువల్ల అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద అసాధారణ లక్షణాలను చూపుతుంది. పొటాషియం-డోప్డ్ (K-డోప్డ్) టంగ్స్టన్ బల్క్ మెటీరియల్ ప్లాస్మా-ఫేసింగ్ మెటీరియల్‌కు కూడా ఆకర్షణీయమైన అభ్యర్థిగా మారుతుంది. స్పార్కింగ్ ప్లాస్మా సింటరింగ్ (SPS)తో తయారు చేయబడిన K-డోప్డ్ టంగ్స్టన్ మంచి ఉష్ణ వాహకతను, అలాగే RT నుండి 50 °C ఉష్ణోగ్రతల వద్ద బలమైన యాంత్రిక లక్షణాలను చూపుతుందని నివేదించబడింది.
హోమ్
